现在Intel及ASML联合宣布了HighNAEUV光刻机已经量产了100万片晶圆，这也是该技术的一个重要里程碑。
剩下的35万片HighNAEUV晶圆应该是台积电、三星、SK海力士等公司用于测试及小规模生产的，还没有大规模用于量产工艺。前全球有4家客户投入了10台HighNAEUV光刻机，还有3台系统正在出货安装中。Intel不仅是ASML公司HighNAEUV光刻机的最大客户，这次双方还联合宣布一项更重要的合作，那就是合作开发6x12英寸面积的HighNAEUV光罩，计划在2031年试产，2033年正式量产。这个技术解决了，HighNAEUV光刻技术最大的死穴才能破除，未来才能用于高性能芯片制造。
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