聚氨酯为何成为主流 CMP 抛光垫材料,化学机械抛光垫材料解析

半导体晶圆 CMP 化学机械抛光环节里,聚氨酯是当前行业主流抛光垫材料,核心原因是聚氨酯材料可以精准调控孔隙结构、硬度、弹性,同时兼