佳能推出全新 KrF 半导体光刻机 FPA-6400ES6a,主打高产能与高套刻精度

佳能在东京正式对外发布新款 KrF 半导体光刻机 FPA-6400ES6a,这款设备面向存储芯片、逻辑芯片量产场景,主要就是解决多层堆叠芯片制造