佳能官宣布局光刻设备赛道,尝试向 ASML 发起技术竞争

佳能正在发力光刻设备研发业务,打算在光刻机市场向龙头 ASML 发起挑战,目前佳能的主攻方向不是 ASML 垄断的高端 EUV 极紫外光刻机

佳能正面挑战 ASML,新一代 KrF 光刻机发布,纳米压印开辟差异化光刻赛道

佳能近期正式推出 FPA-6400ES6a KrF 扫描光刻机,在成熟存储、逻辑芯片光刻赛道对标 ASML 同级别设备,同时持续推进纳米压印光刻技术