陶瓷薄膜低温致密化生长迎来液相生长新策略,800℃实现高熔点陶瓷膜致密制备

中科院大连化物所杨维慎、朱雪峰团队推出液相生长全新方案,成功实现陶瓷薄膜低温致密化生长,在常压 800℃条件下就制备出致密、成分均匀